第154章 陳正博士再度來訪

「游戲結束了,左為民!」馬建國再次高聲呼喊道︰「我已經看不下去了,無論如何,我今天都要把你的罪行給揭露出來!」

「馬廠長果然識大體,顧全大局,懂得順勢而為。」李東笑道,「左廠長,你還有什麼好說的?」

此時左為民的表情也有些恍惚,他並未理會李東的話語,只是思緒飛揚,回憶起了十多年前,自己尚還年輕的時候。

也是在這個大禮堂中,同樣的位置,當年老廠長右遷省工業廳,將廠長這個位子傳給他時,他站在台上,意氣風發,接受著廠里上下員工的羨慕與祝福,發誓要將晶華帶上一個更新的台階,更大的舞台。

如今時過境遷,自己立下的誓言,早已忘了個一干二淨,也不知道從什麼時候開始,自己竟然變成了一個痴迷于權力,頑固不化的大惡人。

誰年輕的時候還不是一個胸懷抱負,滿腔熱血的人?

見到台上左為民的神情,在台下角落中坐著的王向中,也是深深地嘆了一口氣。

他非常理解左為民此時的感受,因為他曾經也走過錯路,上一輩子他坐到了水木大學計算機系教授的位置,自然也是踩著不少人的頭頂上去的。

也正是因為這些破事太多,讓他從一個心存高遠志向,立誓要打破國外技術壟斷的年輕人,變成了只會每天坐在辦公室機械地備課、開會說大話的麻木冷血的中年人。

只不過他如今有了回頭的機會,而左為民沒有。

此時的左為民就如同一瞬之間老了十歲一般,整個人都顯露出一種憔悴的疲態。只見他搖了搖頭,似乎是什麼都不再想辯解了,馬建國的話句句屬實,證據確鑿,他不用開月兌,也無法開月兌。

會議結束後,也沒等李東發文處置,他便自己一個人跑到廠里的人事處,辦理了內退手續。

當天下午,左為民便自己收拾了辦公室中的私人物品,一個招呼也沒和其它人打,便消失在了眾人的視野之中。

後來有人說他回老家種地了,也有人說他去國外找兒女去了,眾說紛紜,誰也說不清他的去向。

而唯一和他保有聯系的極少數幾個員工,也是三緘其口,避而不談。

馬建國自然是接下了空出來的廠長位子,廠里的員工們也沒有什麼意見,雖然前者的名聲和人品不咋地,但畢竟也是現在晶華晶圓廠里為數不多的行政老員工,那技術能力也是過硬的,整個算下來,也沒有什麼特別能令人挑剔的地方。

除掉了左為民這個禍患以後,李東也終于是坐實了董事長的位置,水木大學研究組也終于能夠安心開展研究工作了。

……

時間一晃,便又過去了半個月的時間。

因為氣壓對光刻的成像影響還在研究當中,王向中和馬建國做過商量之後,便是做出了決定,首先把水木研究組的光刻機改良成果應用在所有光刻機上。

但說實話,氣壓對光刻機成像的影響是有限的,i線光刻機所使用的光波波長為365納米,也就是說,它的極限制程就是0.35微米,盡管王向中在上輩子有看過一篇論文,將離軸照明和移相掩模技術相結合,能將i線光刻機的分辨率超過極限,達到0.2微米制程,但這樣的研究工作一點都不劃算。

現在想要進一步提升光刻機的性能,便只能選擇研究波長更低的準分子激光或者是DUV深紫外線光源,但這個目標對于王向中而言,還是太早了一些。

這個問題還不是光有錢就能解決的,雖然在國際上早早地便有論文提出了這些光源的激發方法,但即便是有理論的存在,國內也沒有任何一家廠商能將它們化為現實。

好在王向中還有足夠的時間去研究光源問題,目前國際主流芯片制程大概也就是0.2微米左右的樣子,在4年後,來自寶島的林堅博士,便會使用浸潤式光刻技術,攻克193納米分辨率的極限。

一想到這,王向中也不知道該怎麼辦才好了,現在自己的資金積累還不太夠,想要研發國產光刻機無疑是痴人說夢,即便是有了資金,也缺乏人才和背後的工業力量制程,同樣是死路一條。

雖然他理論知識豐富,但光憑他一個人,把這些來自未來的理論技術給傳播出去,恐怕也就是便宜了阿美瑞肯罷了。

但研究工作又不能停滯,總不可能接下來的四年一直圍著i線光刻機轉吧?

正當他左右為難時,手機突然響了起來。

「叮叮叮——」

王向中嘆了一口氣,接起電話,對面傳來了李東激動的講話。

「王老弟,你快來廠里的會客廳,陳正博士回來了!」

陳正博士?他听到這話也是怔了怔,旋即面色也是一陣狂喜,他突然想起來,上次陳正博士承諾了要帶專家來指導工作,想必這次也是把人給找到了,帶著對方來了晶華做客。

陳正博士口中的專家,可不是自己這種只懂得理論知識的假專家,而是名副其實的,耕耘在一線多年的真正的工程師專家!

「好!我馬上就過來,您幫我通知一下葉志華教授!」

說完他也是火急火燎地掛斷了電話,連準備工作都不做了,直接沖著會客廳而去。

等他到了會客廳,便見到李東和陳正兩人正在有說有笑中,而在後者身旁,則是坐著兩個中年男子,倒也不怎麼說話。

見到那兩個人,王向中也是徹底愣住了,其中一個人是陳正承諾要帶來的張京博士,對方也是晶圓生產制造方面的專家。

在原本的歷史中,陳正和晶華合資,由張京博士擔任晶華的總經理位置,一時之間也是做得風生水起。

也正是在張京博士手里,晶華光刻機的制程也升級到了0.5微米,同時還將晶圓尺寸提升到了8英寸,基本達到了國際主流水平。

但是另外一個人,則是完全出乎了王向中的意料,雖然他僅僅看到了對方的側臉,但毫無疑問,那個人就是浸潤式光刻技術的發明者——林堅博士!

原來陳正博士和林堅博士倆人早就相識了!但一想到對方都是寶島人,加上倆人都是芯片領域的專家,相互認識也是情有可原的。

但是能將林堅博士請到晶華來,這得是多大的榮幸啊!

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